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          轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)使用技巧方面簡(jiǎn)述

          更新時(shí)間:2019-03-27       點(diǎn)擊次數(shù):1806
             轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)的關(guān)鍵是低溫等離子體的應(yīng)用,它主要取決于高溫、高頻、高能等外部條件,是一種電中性、高能、全部或部分電離的氣態(tài)物質(zhì)。低溫等離子體的能量約為幾十電子伏特,其中包含離子、電子、自由基等活性粒子,以及紫外輻射和其他輻射線,這可以很容易地與污染物發(fā)生反應(yīng)分子在固體表面脫離,然后在清洗中發(fā)揮作用。同時(shí),由于低溫等離子體的能量遠(yuǎn)低于高能射線,該技術(shù)只涉及材料表面,不影響材料基體的性能。
           
            轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)是一種干燥過(guò)程,由于采用了電能催化反應(yīng),可以提供低溫環(huán)境,同時(shí)消除了濕式化學(xué)清洗和廢液的風(fēng)險(xiǎn),安全、可靠、環(huán)保。簡(jiǎn)而言之,等離子體清洗技術(shù)結(jié)合等離子體物理、等離子體化學(xué)和氣固界面反應(yīng),能夠有效去除材料表面殘留的有機(jī)污染物,保證材料的表面和本體性能不受影響。目前,它被認(rèn)為是傳統(tǒng)濕法清洗的主要替代技術(shù)。
           
            更重要的是,旋轉(zhuǎn)瓶等離子體清洗機(jī)技術(shù)無(wú)論處理對(duì)象的基材類型如何,對(duì)半導(dǎo)體、金屬和大多數(shù)高分子材料都具有很好的處理效果,并能實(shí)現(xiàn)整體、局部和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。該工藝易于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)和數(shù)字化流程,可配備高精度控制裝置,控制時(shí)間,具有記憶功能。正因?yàn)榈入x子清洗工藝具有操作簡(jiǎn)單、精度可控等顯著優(yōu)點(diǎn),已廣泛應(yīng)用于電子電氣、材料表面改性及活化等行業(yè)。同時(shí),可以預(yù)測(cè),這種*的技術(shù)也將得到認(rèn)可,并在復(fù)合材料領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。
           
            現(xiàn)在很多行業(yè)都開(kāi)始使用一轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī),并根據(jù)使用特定于行業(yè)的等離子體清洗設(shè)備的類型不同,大氣壓等離子體清洗機(jī)廣泛應(yīng)用等加工設(shè)備清洗行業(yè)的應(yīng)用非常廣泛,而今天說(shuō)瓶子等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)是什么?
           
            1,在許多干燥過(guò)程線對(duì)象或不確定流水線的效率,并通過(guò)大氣壓力的氣氛等離子清洗設(shè)備,清洗物品表面干燥,此外,根據(jù)不同的對(duì)象要清理一些物品如果濕法凈化清洗方法可能危害項(xiàng)目,這也是大氣壓等離子體清洗設(shè)備的優(yōu)勢(shì)。
           
            2,與其他等離子體清洗設(shè)備相比,大氣壓等離子體清洗設(shè)備成本較低,因?yàn)檎婵涨逑礂l件只需要100 pa,不僅清潔條件容易滿足,并在清洗的過(guò)程中不需要使用昂貴的有機(jī)溶劑,因此放下整個(gè)洗滌過(guò)程的成本,但仍洗效率高,只需要幾分鐘來(lái)完成清洗。
           
            3、面向?qū)ο蟮膹V泛應(yīng)用也是常壓等離子體清洗設(shè)備的一大優(yōu)點(diǎn),金屬和半導(dǎo)體或氧化物,任何材料都可以有效地進(jìn)行清洗,而且還可以對(duì)被清洗對(duì)象進(jìn)行局部或整體的清洗,也非常方便操作。此外,它還可以改善被清洗對(duì)象的表面性能,如增加表面的潤(rùn)濕性或附著力。
           
            4,在提倡綠色環(huán)保的今天使用大氣大氣等離子體清洗設(shè)備可以有效地避免有害污染物的殘留,清洗時(shí)間也不需要使用三氯乙烷和其他有害溶劑,實(shí)現(xiàn)一個(gè)真正的綠色清潔,今天越來(lái)越注意環(huán)境保護(hù)是至關(guān)重要的。
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